|
|||||
|
|
| 催化新材料γ－Mo_2N的合成及表征 | |
| 作者姓名： | 张耀军 李新生 魏昭彬 应品良 苗延芬 王力 辛勤 |
| 作者单位： | 中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室 |
| 摘 要： | 通过程序升温控制的ＭｏＯ３与ＮＨ３的Ｔｏｐｏｔａｃｔｉｃ反应，合成出钝化后比表面达１４０ｍ２／ｇ的γ－Ｍｏ２Ｎ。研究发现ＮＨ３空速、升温速率、前身态ＭｏＯ３粒度等对高比表面γ－Ｍｏ２Ｎ的形成影响很大。γ－Ｍｏ２Ｎ的比表面与孔径分布呈一定的规律性变化。ＸＲＤ测试结果表明高比表面γ－Ｍｏ２Ｎ与低比表面γ－Ｍｏ２Ｎ的衍射峰强度有很大差异。同时文中对ＭｏＯ３的氮化过程进行了探讨，结果表明ＭｏＯ３在７７３Ｋ时已生成高比表面的γ－Ｍｏ２Ｎ，比文献报道的合成温度低２００Ｋ左右． |
| 关 键 词： | γ－Mo_2N，BET比表面，晶相表征，孔径分布 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《分子催化》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《分子催化》下载全文 | |