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GaAs和AlGaAs MBE外延生长动力学研究
引用本文:陈益栋,刘兴权.GaAs和AlGaAs MBE外延生长动力学研究[J].红外与毫米波学报,2000,19(1):67-70.
作者姓名:陈益栋  刘兴权
作者单位:1. 中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家实验室,上海,200083;吉林大学电子工程系,吉林,长春,130023
2. 中国科学院上海技术物理研究所,红外物理国家实验室,上海,200083
3. 吉林大学电子工程系,吉林,长春,130023
基金项目:中国科学院资助项目,国家重点基础研究发展计划(973计划),69776018,19525409,,
摘    要:研究了在GaAs(001)衬底上外延生长GaAs、AlGaAs材料过程中反射高能电子衍射(RHEED)的各级条纹及其强度随生长过程的变化。通过对各级条纹强度振荡周期和位相的分析,应用二维成核层状生长模型解释了实验结果:生长表面形貌的周期性变化导致了RHEED各级条纹及其强度的周期性变化。

关 键 词:分子束外延  砷化镓  半导体  AlGaAs
修稿时间:1999-02-03

STUDY OF THE GaAs, AlGaAs MBE GROWTH DYNAMICS
CHEN Yi-Dong,LIU Xing-Quan,LU Wei,QIAO Yi-Min,WANG Xian-Ren.STUDY OF THE GaAs, AlGaAs MBE GROWTH DYNAMICS[J].Journal of Infrared and Millimeter Waves,2000,19(1):67-70.
Authors:CHEN Yi-Dong  LIU Xing-Quan  LU Wei  QIAO Yi-Min  WANG Xian-Ren
Abstract:
Keywords:MBE  RHEED  real  time monitoring  GaAs  AlGaAs  
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