| 退火温度对TiO2薄膜结构、组分和光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 周明飞,孟凡明,孙兆奇,宋学萍. 退火温度对TiO2薄膜结构、组分和光学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2008, 37(2): 411-416 |
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| 作者姓名： | 周明飞 孟凡明 孙兆奇 宋学萍 |
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| 作者单位： | 安徽大学物理与材料科学学院,合肥,230039 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金 , 教育部高等学校博士学科点专项科研基金 , 安徽省高等学校省级自然科研基金 , 安徽大学研究生创新项目 |
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| 摘 要： | 利用射频磁控溅射,在硅和石英基底上制备了厚度为150 nm的TiO2薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外可见分光光度计(UV-vis)和光致发光谱(PL)等多种测试分析技术,研究退火温度对TiO2薄膜结构、组分及光学性能的影响.研究结果表明,未退火薄膜为无定型结构;随着退火温度的升高薄膜的金红石相含量逐渐增加,并沿(110)晶面择优取向.能隙也由退火前的3.03 eV逐渐增加到900℃退火后的3.18eV.对于TiO2薄膜催化活性最优的退火温度应为800℃.
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射 TiO22薄膜 退火 光学性能, |
| 文章编号： | 1000-985X(2008)02-0411-06 |
| 修稿时间： | 2007-07-16 |
Effect of Annealing Temperature on Structural, Compositional and Optical Properties of TiO2 Films |
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| ZHOU Ming-fei,MENG Fan-ming,SUN Zhao-qi,SONG Xue-ping. Effect of Annealing Temperature on Structural, Compositional and Optical Properties of TiO2 Films[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2008, 37(2): 411-416 |
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| Authors: | ZHOU Ming-fei MENG Fan-ming SUN Zhao-qi SONG Xue-ping |
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