首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

同步辐射X线光刻
引用本文:陈梦真.同步辐射X线光刻[J].物理学进展,1992,12(3):359-374.
作者姓名:陈梦真
作者单位:中科院微电子中心
摘    要:X线光刻是未来亚微米应用的重要微光刻技术、近年来,同步辐射X线光源的应用是技术上一个重要发展,本文叙述了同步辐射X线光刻在微电子技术未来发展中的作用、现状及其基本技术问题。并介绍了我国同步辐射X线光刻的发展情况。

关 键 词:同步辐射  X射线源  光刻技术
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号