立方Y_2O_3薄膜结构、力学及光学性能的研究 |
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引用本文: | 王猛,李成明,朱瑞华,刘金龙,陈良贤,魏俊俊,黑立富.立方Y_2O_3薄膜结构、力学及光学性能的研究[J].人工晶体学报,2014(1). |
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作者姓名: | 王猛 李成明 朱瑞华 刘金龙 陈良贤 魏俊俊 黑立富 |
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作者单位: | 北京科技大学新材料技术研究院; |
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基金项目: | 国家自然科学基金(51272042);教育部博士点基金(2011000110011) |
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摘 要: | 采用射频磁控溅射法在本征(100)Si片上和CVD金刚石膜上制备了立方(222)择优取向的Y2O3薄膜,应用AFM观察薄膜的三维形貌表明薄膜表面晶粒致密,缺陷较少,表面粗糙度为8.7 nm;TEM表征薄膜微观结构,表明薄膜为柱状晶结构,柱状晶宽度10~20 nm,而且晶界明显,部分较大晶粒中存在些许位错缺陷;纳米力学探针和划痕仪表征薄膜的力学性能,表明薄膜硬度为20.73 GPa,弹性模量为227.5 GPa,可作为金刚石膜的抗氧化保护膜,并且与金刚石膜的结合较好,结合力约为5 N;FTIR对薄膜的光学性能进行分析,表明双面立方Y2O3薄膜对金刚石膜的最大增透为23%,基本符合Y2O3的理论增透效果。
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关 键 词: | YO薄膜 射频磁控 缺陷 |
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