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三氟丙基修饰的二氧化硅膜制备、氢气分离及其水热稳定性能
引用本文:洪志发,韦奇,李国华,王学伟,聂祚仁,李群艳.三氟丙基修饰的二氧化硅膜制备、氢气分离及其水热稳定性能[J].无机化学学报,2013,29(18).
作者姓名:洪志发  韦奇  李国华  王学伟  聂祚仁  李群艳
作者单位:北京工业大学材料科学与工程学院,北京 100124;北京工业大学材料科学与工程学院,北京 100124;浙江工业大学化学工程与材料学院,杭州 310014;北京工业大学材料科学与工程学院,北京 100124;北京工业大学材料科学与工程学院,北京 100124;北京工业大学材料科学与工程学院,北京 100124
基金项目:国家自然科学基金(No.21171014,50502002);国家863计划课题(No.2009AA03Z213);浙江省绿色化学合成技术国家重点实验室培育基地开放基金(No.GCTKF2012016)资助项目。
摘    要:以三氟丙基三甲氧基硅烷(TFPTMS)和正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备三氟丙基修饰的SiO2膜材料,研究了三氟丙基修饰对膜材料孔结构和疏水性的作用、疏水膜材料的氢气渗透和分离性能以及水热稳定性能。结果表明三氟丙基修饰后的膜材料仍保持良好的微孔结构,孔径狭窄分布在0.45~0.7 nm之间。修饰后膜材料疏水性明显提高,当nTFPTMS/nTEOS=0.6时,对水的接触角达到(102.7°±0.1°)。H2在修饰后膜材料的输运遵循微孔扩散机理,在300 ℃时,H2的单组份渗透率达到4.77×10-7 mol·m-2·s-1·Pa-1,H2/CO2的理想分离系数以及双组份分离系数分别达到6.99和6.93,均高于其Knudsen扩散分离因子。在200 ℃水蒸气物质的量含量为5%的环境中陈化220 h后,H2的单组份渗透率仅在前3 h有轻微下降,然后基本保持不变,说明三氟丙基修饰的SiO2膜具有良好的水热稳定性。

关 键 词:二氧化硅膜  溶胶-凝胶法  疏水性  气体分离  水热稳定性

Preparation, H2 Separation and Hydrothermal Stability of Trifluoropropyl-Modified Silica Membranes
HONG Zhi-F,WEI Qi,LI Guo-Hu,WANG Xue-Wei,NIE Zuo-Ren and LI Qun-Yan.Preparation, H2 Separation and Hydrothermal Stability of Trifluoropropyl-Modified Silica Membranes[J].Chinese Journal of Inorganic Chemistry,2013,29(18).
Authors:HONG Zhi-F  WEI Qi  LI Guo-Hu  WANG Xue-Wei  NIE Zuo-Ren and LI Qun-Yan
Institution:College of Materials Science and Engineering, Beijing University of Technology, Beijing 100124, China;College of Materials Science and Engineering, Beijing University of Technology, Beijing 100124, China;College of Chemical Engineering and Materials Science, Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014, China;College of Materials Science and Engineering, Beijing University of Technology, Beijing 100124, China;College of Materials Science and Engineering, Beijing University of Technology, Beijing 100124, China;College of Materials Science and Engineering, Beijing University of Technology, Beijing 100124, China
Abstract:
Keywords:silica membrane  sol-gel technique  hydrophobic property  gas separation  hydrothermal stability
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