| 用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0.4μm～1.1μm超宽带增透膜 |
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| 引用本文： | 谭宇,梁宏军,刘永强,赵兴梅.用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁膜料镀制0.4μm～1.1μm超宽带增透膜[J].应用光学,2007,28(5):623-626. |
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| 作者姓名： | 谭宇 梁宏军 刘永强 赵兴梅 |
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| 作者单位： | 1. 西安应用光学研究所,陕西,西安,710065
2. 西安通信学院,数理教研室,陕西,西安,710106 |
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| 摘 要： | 对0.4μm~1.1μm超宽带增透膜的镀制工艺进行了研究。根据长期从事该工作的经验和对膜料性能的研究,结合国产设备的实际情况,在膜料的选取上主要考虑其透明光谱区域、折射率、材料的蒸发方式、机械特性、化学稳定性及抗高能辐射等因素;最终选择用二氧化钛、二氧化硅和氟化镁3种常用膜料镀制0.4μm~1.1μm超宽带增透膜。涉及该膜系的膜层共有8层,结构为:玻璃■H■M■H■M■H■M■H■L■空气■。制作工艺方便简单、稳定,制做的膜层具有较好的光谱和机械性能,满足光电仪器实际使用要求。
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| 关 键 词： | 膜厚 膜层折射率 宽光谱 镀膜材料 |
| 文章编号： | 1002-2082(2007)05-0623-04 |
| 修稿时间： | 2006年10月20 |
0. 4 μm～1.1 μm AR film prepared with TiO2, SiO2 and MgF2 |
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| TAN Yu,LIANG Hong-jun,LIU Yong-qiang,ZHAO Xing-mei.0. 4 μm～1.1 μm AR film prepared with TiO2, SiO2 and MgF2[J].Journal of Applied Optics,2007,28(5):623-626. |
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| Authors: | TAN Yu LIANG Hong-jun LIU Yong-qiang ZHAO Xing-mei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | film thickness refractive index of layer wide spectrum film material |
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