| 溅射功率对脉冲磁控溅射沉积Cu2O薄膜结构和光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 自兴发 杨 雯 杨培志 彭柳军 邓 双 宋肇宁. 溅射功率对脉冲磁控溅射沉积Cu2O薄膜结构和光学性能的影响[J]. 人工晶体学报, 2014, 43(4): 1003-1008 |
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| 作者姓名： | 自兴发 杨 雯 杨培志 彭柳军 邓 双 宋肇宁 |
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| 作者单位： | 云南师范大学太阳能研究所,可再生能源材料先进技术及制备教育部重点实验室,昆明650092;楚雄师范学院物理与电子科学系,楚雄675000;云南师范大学太阳能研究所,可再生能源材料先进技术及制备教育部重点实验室,昆明650092;云南师范大学太阳能研究所,可再生能源材料先进技术及制备教育部重点实验室,昆明650092;托莱多大学物理与天文体系,托莱多43606,美国 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金联合资助基金项目(U1037604) |
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| 摘 要： | 利用脉冲磁控溅射制备技术,采用单质金属铜靶作为溅射靶,在氧气(O2)和氩气(Ar)的混合气氛下,在石英玻璃衬底上制备了Cu2O薄膜.研究了溅射功率对脉冲反应磁控溅射沉积法在室温下对生长Cu2O薄膜结构、表面形貌及光学性能的影响.结果表明,在O2、Ar流量比(O2/Ar)为30∶80的气氛条件下,在60～90 W的溅射功率范围内可获得＜ 111＞取向的Cu2O薄膜;薄膜的表面粗糙度的均方根值随溅射功率的增加而增大;薄膜的光谱吸收范围为300 ～670 nm,不同溅射功率下制备的薄膜均在430 nm附近出现明显的带边吸收,其光学带隙(Eg)在2.15～2.53 eV之间变化.
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| 关 键 词： | Cu2O薄膜 溅射功率 表面粗糙度 光学带隙, |
Effects of Sputtering Power on Structure and Optical Properties of Cu2O Thin Films Deposited by Pulse Magnetron Sputtering |
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| ZI Xing-fa,YANG Wen,YANG Pei-zhi,PENG Liu-jun,DENG shuang,SONG Zhao-ning. Effects of Sputtering Power on Structure and Optical Properties of Cu2O Thin Films Deposited by Pulse Magnetron Sputtering[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2014, 43(4): 1003-1008 |
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| Authors: | ZI Xing-fa YANG Wen YANG Pei-zhi PENG Liu-jun DENG shuang SONG Zhao-ning |
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