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Modeling of Large ELM Suppressions for High Confinement Plasma in D Ⅲ-D
作者姓名:YAN Longwen T. E. Evans
作者单位:[1]不详 [2]General Atomics, E O. Box 85608, San Diego, USA
基金项目:Supported by Fusion Collaboration between China and USA on Fluid Plasma Simulation ( DE-FC02 04ER 54698 )
摘    要:

关 键 词:ELM抑制 随机磁边界 3-D痕迹 经济可行性 等离子体
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