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高质量GaN外延薄膜的生长
作者姓名:吴学华
作者单位:中国科学技术大学基础物理中心
摘    要:综述了高质量GaN外延薄膜的生长研究工作的最新重要进展.主要采用的新工艺为:在较低温度下生长GaN缓冲层后再高温生长GaN外延薄膜,双气流金属有机化合物气相沉积(MOCVD),以及用开有窗口的SiO2膜截断穿过位错后横向覆盖外延生长(epitaxialylateralovergrowth).X射线衍射和高分辨电镜研究证实,上述工艺使GaN外延薄膜质量得到显著提高.利用这种薄膜研制成的蓝色激光管即将投放市场.

关 键 词:GaN,外延薄膜,蓝色激光管,穿过位错
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