首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

真空方法镀制49号双防保护膜
引用本文:王岫岩.真空方法镀制49号双防保护膜[J].光子学报,1984,13(4):54-60.
作者姓名:王岫岩
摘    要:光学仪器在使用和贮存过程中,要受到霉雾等自然环境因素的危害。多年来国内外光学仪器研究工作者对这个问题极为重视。工作作者们研究了许多方法,探索了许多三防性能较好的新材料。目前,据了解,国外研究较多的一种是真空镀膜(又以等离子体聚合和溅射占优势。)美国等西方国家用得较多;二是离心镀膜法,主要苏联用。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
点击此处可从《光子学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《光子学报》下载免费的PDF全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号