真空方法镀制49号双防保护膜 |
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引用本文: | 王岫岩.真空方法镀制49号双防保护膜[J].光子学报,1984,13(4):54-60. |
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作者姓名: | 王岫岩 |
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摘 要: | 光学仪器在使用和贮存过程中,要受到霉雾等自然环境因素的危害。多年来国内外光学仪器研究工作者对这个问题极为重视。工作作者们研究了许多方法,探索了许多三防性能较好的新材料。目前,据了解,国外研究较多的一种是真空镀膜(又以等离子体聚合和溅射占优势。)美国等西方国家用得较多;二是离心镀膜法,主要苏联用。
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