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偏压电极对KT-5C装置等离子体边缘的影响
引用本文:王之江,王成,潘阁生,闻一之,万树德,俞昌旋,孙玄,王俊,陆荣华.偏压电极对KT-5C装置等离子体边缘的影响[J].核聚变与等离子体物理,2002,22(1):49-53.
作者姓名:王之江  王成  潘阁生  闻一之  万树德  俞昌旋  孙玄  王俊  陆荣华
作者单位:中国科学技术大学近代物理系,合肥,230027
基金项目:国家自然科学基金资助项目 (196 35 0 2 0 ,196 75 0 36 ,19775 0 46 ),教育部博士点基金资助项目 (95 35 80 6,980 3810 ),中国科学院资助项目
摘    要:通过电极偏压来控制KT 5C装置边缘区等离子体的径向电场 ,发现在正偏压作用下 ,径向电场剖面由小的负阱状变成明显的山包结构 ,从而形成一个加强的E×B剪切层。剪切层附近的等离子体参数变陡 ,不仅等离子体极向流速度大大增加 ,而且其方向也由沿电子逆磁漂移方向改变为离子的逆磁漂移方向。这些变化导致等离子体边界横向输运被抑制、整体约束得到改善

关 键 词:偏压电极  极向流速度  环向电流  磁约束装置  等离子体  KT-5C装置  径向电场
文章编号:0254-6086(2002)01-0049-05
修稿时间:2001年2月27日

INFLUENCE OF ELECTRODE BIASING ON EDGE PLASMA PARAMETERS IN THE KT-5C
WANG Zhi-jiang,WANG Cheng,PAN Ge-sheng,WEN Yi-zhi,WAN Shu-de,YU Chang-xuan,SUN Xuan,WANG Jun,LU Ronghua.INFLUENCE OF ELECTRODE BIASING ON EDGE PLASMA PARAMETERS IN THE KT-5C[J].Nuclear Fusion and Plasma Physics,2002,22(1):49-53.
Authors:WANG Zhi-jiang  WANG Cheng  PAN Ge-sheng  WEN Yi-zhi  WAN Shu-de  YU Chang-xuan  SUN Xuan  WANG Jun  LU Ronghua
Abstract:
Keywords:Electrode biasing  Polodial flow speed  Toroidal flow speed
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