首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

金属离子印迹技术研究进展
引用本文:朱琳琰,张荣华,朱志良.金属离子印迹技术研究进展[J].化学通报,2010,73(4).
作者姓名:朱琳琰  张荣华  朱志良
作者单位:朱琳琰,朱志良,Zhu Lingyan,Zhu Zhiliang(同济大学污染控制与资源化研究国家重点实验室,上海,200092);张荣华,Zhang Ronghua(同济大学化学系,上海,200092) 
基金项目:国家水体污染控制与治理科技重大专项课题 
摘    要:作为分子印迹技术的一个重要发展方向,金属离子印迹技术的发展对于环境、生命和材料科学等领域具有重要的学术和应用价值。与金属离子有关的印迹技术属于分子印迹技术中的前沿内容,其中有两方面尤其值得关注,一是以金属离子作为模板的离子印迹技术,另一是利用金属离子与生物分子的配位作用促进和实现生物大分子的分子印迹技术。本文对近年来国内外有关金属离子的分子印迹技术进展作了介绍和综述,并对该领域目前存在的问题进行了分析和展望。

关 键 词:金属离子  分子印迹  进展

Progress of Metal-ion Imprinting Technology
Zhu Lingyan,Zhang Ronghua,Zhu Zhiliang.Progress of Metal-ion Imprinting Technology[J].Chemistry,2010,73(4).
Authors:Zhu Lingyan  Zhang Ronghua  Zhu Zhiliang
Abstract:
Keywords:Metal iron  Molecular imprinting  Development
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号