用EXAFS研究NiO在γ-Al_2O_3表面上的分散 |
| |
引用本文: | 金祥林,蔡小海,葛志红,谢有畅,唐有祺,赵雅琴,陆坤权.用EXAFS研究NiO在γ-Al_2O_3表面上的分散[J].物理化学学报,1989(2). |
| |
作者姓名: | 金祥林 蔡小海 葛志红 谢有畅 唐有祺 赵雅琴 陆坤权 |
| |
作者单位: | 北京大学结构化学开放研究实验室
(金祥林,蔡小海,葛志红,谢有畅,唐有祺),中国科学院物理研究所
(赵雅琴),中国科学院物理研究所(陆坤权) |
| |
摘 要: | 本文使用EXAFS方法研究NiO在γ-Al_2O_3的表面上的分散情况。文章讨论了Ni含量为7%、13%、18%、26%、35%的NiO/γ-Al_2O_3体系的径向结构函数图以及Ni含量为13%、26%的NiO/α-Al_2O_3样品的径向结构函数图,认为NiO能在γ-Al_2O_3表面上成单层分散。分散后的Ni-O距离接近NiO晶体的Ni-O距离,表明Ni离子和γ-Al_2O_3表面上的氧有很强的相互作用。
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|