| 氮化硅在超声波辐照下的水解 |
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| 引用本文： | 王中华,陈天朗. 氮化硅在超声波辐照下的水解[J]. 化学研究与应用, 2003, 15(4): 503-505 |
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| 作者姓名： | 王中华 陈天朗 |
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| 作者单位： | 1. 四川师范学院化学系,四川,南充,637002
2. 四川大学化学学院,四川,成都,610064 |
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| 基金项目： | 四川师范学院2000年科研启动基金资助项目(2000-16) |
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| 摘 要： | 氮化硅(Si3N4)是近三四十年发展起来的一种新型陶瓷材料,应用广泛[1-3],化学性质特别稳定,一般情况下难以发生反应,鲜有人研究其化学性质。有研究[3]指出氮化硅在磨擦条件下能与水发生如下反应:Si3N4+6H2O→3SiO2+4NH3,但却无人专门定量地研究过氮化硅在水溶液中的反应性能,为此本文研究了氮化硅在超声波辐照条件下的水解情况,并且还和强力搅拌条件下的结果进行了对比。1 实验部分1 1 主要仪器与试剂超声波清洗器(KQ-218型,KQ-250B型,CX-250型,CK-25-06型)BF-101B型磁力搅拌器,72型分光光度计,氮化硅(>99 9%,α Si3N4>95%)…
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| 关 键 词： | 氮化硅 超声波辐照 水解 化学性质 水解率 |
| 文章编号： | 1004-1656(2003)04-0503-03 |
| 修稿时间： | 2002-07-11 |
Study on the ultrasonic hydrolysis of silicon nitride |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Silicon nitride Ultrasound:Hydrolysis |
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