| 纳米硅薄膜/多孔氧化铝复合体系光致发光的温度特性 |
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| 引用本文： | 曹小龙,李清山,王清涛,张利宁. 纳米硅薄膜/多孔氧化铝复合体系光致发光的温度特性[J]. 发光学报, 2004, 25(6): 725-730 |
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| 作者姓名： | 曹小龙 李清山 王清涛 张利宁 |
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| 作者单位： | 曲阜师范大学,物理系,山东,曲阜,273165;中国科学技术大学,物理系,安徽,合肥,230026 |
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| 基金项目： | 山东省自然科学基金资助项目(Y2002A09) |
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| 摘 要： | 利用高真空电子束蒸发方法在多孔氧化铝衬底上生长了纳米硅薄膜，经过650℃高温真空退火后，在10～300K温度范围内观测样品的荧光光谱特性，并对样品进行了场扫描电镜(SEM)、傅里叶变换红外吸收(FTIR)光谱、X射线衍射(XRD)谱的分析。PL谱结果表明，随着温度的升高，样品的发光峰位一般发生红移，但在50～80K范围内却出现了反常的蓝移现象；样品的发光强度基本是按逐渐减小趋势变化的。在60～80K之间，发光强度有少许变强。讨论了纳米硅薄膜的光致发光机理，用量子限制-发光中心模型对实验现象进行了解释。
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| 关 键 词： | 纳米硅 光致发光 量子限制-发光中心 |
| 文章编号： | 1000-7032(2004)06-0725-06 |
| 修稿时间： | 2003-12-22 |
Temperature Properties of Photoluminescence of Nanocrystalline Silicon Film/Porous Alumina Hybrid System |
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| CAO Xiao-long,LI Qing-shan,WANG Qing-tao,ZHANG Li-ning. Temperature Properties of Photoluminescence of Nanocrystalline Silicon Film/Porous Alumina Hybrid System[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2004, 25(6): 725-730 |
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| Authors: | CAO Xiao-long LI Qing-shan WANG Qing-tao ZHANG Li-ning |
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| Affiliation: | CAO Xiao-long~1,LI Qing-shan~1,WANG Qing-tao~2,ZHANG Li-ning~1 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | nano-crystalline silicon photoluminescence quantum confinement-luminescence center |
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