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优质DKDP晶体的点状籽晶生长及其表征研究
引用本文:刁立臣,常新安,臧和贵.优质DKDP晶体的点状籽晶生长及其表征研究[J].人工晶体学报,2003,32(1):35-40.
作者姓名:刁立臣  常新安  臧和贵
作者单位:北京工业大学材料科学与工程学院,北京,100022
基金项目:北京市教委科技发展计划项目 ( 0 1KJ 0 12 ),北京市自然科学基金 ( 2 0 3 2 0 0 5 )资助项目
摘    要:本文在研究DKDP溶液稳定性的基础上,采用Z切点状籽晶(5mm×5mm×3mm)生长了多块DKDP晶体,在250ml和1000ml生长瓶中分别获得了在100]和001]向生长速度可达到3mm/d和4.5 mm/d的点状籽晶生长优质DKDP晶体的生长条件.通过等离子体发射光谱(ICP)和紫外可见光谱分析发现DKDP晶体柱面的金属离子含量比锥面高,柱面的紫外可见吸收比锥面大.性能测试结果表明,点状籽晶全方位生长的DKDP晶体的激光损伤阈值约为5GW/cm2、半波电压约为4kV、动态消光比约为1600∶1,发现与传统方法生长晶体的性能没有明显的差别.

关 键 词:溶液稳定性  DKDP晶体  晶体生长  点状籽晶  晶体性能  
文章编号:1000-985X(2003)01-0035-06
修稿时间:2002年10月21

Study on the Growth with Point Seed and Characterization of High Quality DKDP Crystal
DIAO Li chen,CHANG Xin an,ZANG He gui.Study on the Growth with Point Seed and Characterization of High Quality DKDP Crystal[J].Journal of Synthetic Crystals,2003,32(1):35-40.
Authors:DIAO Li chen  CHANG Xin an  ZANG He gui
Abstract:
Keywords:solution stability  DKDP crystal  crystal growth  point seed  crystal property
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