| 热处理对Ni0.7Zn0.3O薄膜结构及缺陷荧光特性的影响 |
| |
| 引用本文： | 林方婷,李娜,马学鸣,石旺舟. 热处理对Ni0.7Zn0.3O薄膜结构及缺陷荧光特性的影响[J]. 人工晶体学报, 2007, 36(3): 608-611 |
| |
| 作者姓名： | 林方婷 李娜 马学鸣 石旺舟 |
| |
| 作者单位： | 华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室,上海,200062;华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室,上海,200062;华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室,上海,200062;华东师范大学物理系光谱学与波谱学教育部重点实验室,上海,200062 |
| |
| 基金项目： | 上海市纳米科技专项基金 |
| |
| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积法在Si(100)衬底上制备了Ni0.7Zn0.3O薄膜,通过热处理改变薄膜的缺陷状态,并利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和荧光光谱仪表征薄膜的晶体结构、表面形貌和缺陷发光特性.结果表明:沉积态薄膜为立方结构的Ni0.7Zn0.3O单相,且沿着(200)面高度取向生长.经过热处理后,薄膜形成ZnO和Ni0.7Zn0.3O两相共存的镶嵌结构.样品具有非常丰富的室温荧光光谱,其发光峰主要来自Ni0.7Zn0.3O的缺陷能级跃迁,多缺陷能级导致了多发光峰的荧光光谱.热处理引起薄膜中缺陷的种类和浓度发生变化,严重影响其发光特性.
|
| 关 键 词： | Ni0.7Zn0.3O薄膜 脉冲激光沉积 缺陷荧光特性 热处理 |
| 文章编号： | 1000-985X（2007）03-0608-04 |
| 修稿时间： | 2006-11-20 |
Influence of Annealing on Microstructure and Defect-related Photoluminescence of Ni0.7Zn0.3O Thin Film |
| |
| LIN Fang-ting,LI Na,MA Xue-ming,SHI Wang-zhou. Influence of Annealing on Microstructure and Defect-related Photoluminescence of Ni0.7Zn0.3O Thin Film[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2007, 36(3): 608-611 |
| |
| Authors: | LIN Fang-ting LI Na MA Xue-ming SHI Wang-zhou |
| |
| Affiliation: | Key Laboratory of Optical and Magnetic Resonance Spectroscopy, Ministry of Education, Department of Physics, East China Normal University, Shanghai 200062, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Ni0.7Zn0.3O thin films pulsed-laser deposition defect-related photoluminescence annealing |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《人工晶体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《人工晶体学报》下载全文 |
|
