| 0.2μm聚焦离子束系统中电源稳定度的研究 |
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| 引用本文： | 董桂芳,张克潜,汪健如,应根裕.0.2μm聚焦离子束系统中电源稳定度的研究[J].清华大学学报(自然科学版),1999,39(5):geMap1. |
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| 作者姓名： | 董桂芳 张克潜 汪健如 应根裕 |
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| 作者单位： | 清华大学,电子工程系,北京,100084 |
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| 基金项目： | 国家“八六三”高技术项目 |
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| 摘 要： | 为了在所研制的二级透镜聚焦离子束系统中获得直径小于０．２μｍ的稳定束斑，并进行亚微米微细加工，分析了影响束斑大小及稳定性的因素，并着重从像差、散焦和漂移的角度，利用理论分析和模拟计算，研究了决定系统光学性能的离子源、离子引出极、预聚焦极、聚焦极所用高压电源及电对中、消像散透镜、偏转器所用低压电源的稳定度对离子束径的影响，得到了束直径小于０．２μｍ时电源必须达到的稳定度，即高压电源的纹波系数１×１０－４～１×１０－５，低压电源的纹波系数６×１０－４～１×１０－４。
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| 关 键 词： | 聚焦离子束 微细加工 离子光学 |
| 修稿时间： | 1998-05-06 |
Research of voltage's stability in 0.2μm focused ion beam system |
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| DONG Guifang,ZHANG Keqian,WANG Jianru,YING Genyu.Research of voltage''''s stability in 0.2μm focused ion beam system[J].Journal of Tsinghua University(Science and Technology),1999,39(5):geMap1. |
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| Authors: | DONG Guifang ZHANG Keqian WANG Jianru YING Genyu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | focused ion beam microfabrication ion optical column |
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