|
|||||
|
|
| 接触/接近式光刻UV-LED光源测试分析与工艺研究 | |
| 引用本文： | 陈威,党景涛,王河,周庆奎,庞超群.接触/接近式光刻UV-LED光源测试分析与工艺研究[J].电子工业专用设备,2021,50(1):1-4,33. |
| 作者姓名： | 陈威 党景涛 王河 周庆奎 庞超群 |
| 作者单位： | 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京100176;杭州旻芯电子科技有限公司,浙江 杭州 310000 |
| 摘 要： | 通过对比混波UV-LED(Ultraviolet Light Emitting Diode)光源和单波UV-LED光源的性能和工艺实验,优化了混波UV-LED光源光刻工艺.光源性能主要对比了两种光源最大光照强度和光强均匀度,工艺实验选用不同光照强度15 mW/cm2、20 mW/cm2,不同曝光时间3 s和5 s,样片... |
| 关 键 词： | 光刻机 UV-LED光源 光刻工艺 |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ | |