不同工艺下YAG:Ce3+荧光粉的超声共沉淀合成及表征 |
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引用本文: | 赵爱平,邓宏,刘峰.不同工艺下YAG:Ce3+荧光粉的超声共沉淀合成及表征[J].发光学报,2011,32(11):1104-1108. |
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作者姓名: | 赵爱平 邓宏 刘峰 |
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作者单位: | 电子科技大学 微电子与固体电子学院 电子薄膜与集成器件国家重点实验室, 四川 成都 610054 |
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基金项目: | 电子薄膜与集成器件国家重点实验室的创新基金(CXJJ200901)资助项目 |
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摘 要: | 用共沉淀正滴及反滴工艺,以普通共沉淀及超声辅助共沉淀的方式制备了不同YAG∶Ce3+前驱体,并通过焙烧前驱体粉末合成了YAG∶Ce3+荧光粉。利用XRD、SEM、激光粒度分布仪及荧光分光光度计对所制备样品进行了表征。结果表明,所得样品均为纯相钇铝石榴石结构,反滴工艺下制得的YAG∶Ce3+荧光粉的发光强度高于正滴工艺下的同类样品。且相对于普通共沉淀来说,无论正滴还是反滴工艺,通过超声共沉淀方式制得的荧光粉样品均具有更均匀的晶粒粒径、更窄的粒径分布及更高的发光强度。
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关 键 词: | YAG∶Ce3+荧光粉 超声共沉淀 正滴 反滴 |
收稿时间: | 2011-08-01 |
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