|
|||||
|
|
| 光电子学与光电子产业专题系列介绍：用于X射线光学的多层膜 | |
| 引用本文： | 曹健林.光电子学与光电子产业专题系列介绍：用于X射线光学的多层膜[J].物理,1991,20(5):288-291. |
| 作者姓名： | 曹健林 |
| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械研究所 应用光学国家重点实验室，长春130022 |
| 摘 要： | 用于Ｘ射线，特别是软Ｘ射线（波长范围约为３０－１ｎｍ）光学中的多层膜近十年来引起了人们的广泛重视，取得了许多重要进展．本文对这类多层膜的特点、制备和检测方法以及应用等作简要介绍． |
| 关 键 词： | X射线光学 光电子学 多层膜 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |