| 甲苯—2,4—二异氰酸酯修饰蒙脱土及聚苯乙烯／蒙脱土纳米复合材料？… |
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| 引用本文： | 陈光明 漆宗能. 甲苯—2,4—二异氰酸酯修饰蒙脱土及聚苯乙烯／蒙脱土纳米复合材料？…[J]. 高分子学报, 2000, 20(5): 599-603 |
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| 作者姓名： | 陈光明 漆宗能 |
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| 作者单位： | [1]中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重点实验室 [2]中国科学院化学研究所分子科学中心工程塑料国家重 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重点基金资助项目!(基金号59833310) |
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| 摘 要： | 用ＦＴＩＲ和ＷＡＸＤ法研究了甲苯－２，４－二异氰酸酯（ＴＤＩ）的邻位和对位异氰酸酯基因与蒙脱土表面羟基的修饰反应，在此基础上提出了结构模型；用ＴＤＩ修饰后的蒙脱土成功制备了插层型聚苯乙烯／蒙脱土纳米复合材料，并用ＷＡＸＤ和ＴＥＭ进行了表征。实验结果表明，修饰后ＴＤＩ与蒙脱土表面形成化学键，使蒙脱土的片层间距显著增大，十六烷基三甲基溴化铵（ＣＴＡＢ）在蒙脱土层间由双层平行排列转变为双层脂肪链倾斜方式
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| 关 键 词： | 蒙脱土 聚苯乙烯 纳米复合材料 TDI修饰 制备 |
MODIFICATION OF MONTMORILLONITE WITH TOLUENE-2,4-DI-ISOCYANATE AND PREPARATION AND CHARACTERIZATION OFPOLYSTYRENE/MONTMORILLONITE NANOCOMPOSITE |
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| CHEN Guangming,MA Yongmei,QI Zongneng. MODIFICATION OF MONTMORILLONITE WITH TOLUENE-2,4-DI-ISOCYANATE AND PREPARATION AND CHARACTERIZATION OFPOLYSTYRENE/MONTMORILLONITE NANOCOMPOSITE[J]. Acta Polymerica Sinica, 2000, 20(5): 599-603 |
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| Authors: | CHEN Guangming MA Yongmei QI Zongneng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Montmorillonite Toluene-2 4-di-isocyanate Polystyrene Composite |
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