| 氧压强对Ga掺杂ZnO薄膜光电性质的影响 |
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| 引用本文： | 马亚蕾,许磊,张元越,韩崇,曹培江,潘跃武.氧压强对Ga掺杂ZnO薄膜光电性质的影响[J].光散射学报,2021,33(1):45-51. |
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| 作者姓名： | 马亚蕾 许磊 张元越 韩崇 曹培江 潘跃武 |
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| 作者单位： | 河南理工大学 材料科学与工程学院,河南 焦作 454000;徐州工程学院 机电工程学院,江苏 徐州 221000;河南理工大学 材料科学与工程学院,河南 焦作 454000;徐州工程学院 机电工程学院,江苏 徐州 221000;徐州工程学院 物理与新能源学院,江苏 徐州 221000;深圳大学 材料学院,广东 深圳 518000 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金;江苏省高层次人才培养工程"项目 |
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| 摘 要： | 本文采用脉冲激光沉积(PLD)法在单晶硅(111)和石英玻璃衬底上制备了Ga掺杂ZnO(GZO)纳米薄膜,研究了氧压强对薄膜质量和光电性质的影响.采用XRD和SEM对薄膜的晶体结构和表面形貌进行了表征,结果表明纳米薄膜的平均粒径尺寸可以通过调整氧压强来控制,当氧压强为0.01 Pa时,薄膜的结晶质量最好.PL谱分析结果...
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| 关 键 词： | 氧气压强 Ga掺杂 ZnO薄膜 光电性质 |
Influence of Oxygen Pressure on The Optical and Electrical Properties of GZO Thin Films |
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