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含K2SiF6电解液对钛合金膜层组织与亲水性的影响
作者姓名:梅雁骏  马凤仓  康彬彬  刘磊
作者单位:上海理工大学材料与化学学院
摘    要:TC4作为一种常见的钛合金材料,其表面改性具有较高的研究价值与较广阔的应用前景。采用微弧氧化法,用不同浓度的K2SiF6电解液制备镀件,并与不含K2SiF6的主电解液制备的镀件进行对比,探究K2SiF6-Na3PO4电解液体系对钛合金膜层组织及亲水性的影响。结果表明,电解液电导率与K2SiF6含量正相关,K2SiF6的添加增大了反应电压与膜层中TiO2金红石相的比例;相较于不含K2SiF6的主电解液,添加2 g/L、4 g/L的K2SiF6使得膜层的F含量分别增加0.56%、0.94%,Si含量分别增加0.64%、1.02%,孔隙率分别增大2.05%、7.23%,接触角分别减小19.9°、33.7°;4 g/L的K

关 键 词:微弧氧化  六氟硅酸钾  亲水性测试  表面改性  膜层组织
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