首页
|
本学科首页
官方微博
|
高级检索
全部学科
医药、卫生
生物科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
农业科学
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
历史、地理
语言、文字
文学
艺术
文化、科学、教育、体育
马列毛邓
全部专业
中文标题
英文标题
中文关键词
英文关键词
中文摘要
英文摘要
作者中文名
作者英文名
单位中文名
单位英文名
基金中文名
基金英文名
杂志中文名
杂志英文名
栏目中文名
栏目英文名
DOI
责任编辑
分类号
杂志ISSN号
阴极电弧离子沉积TiN/Ti镀层腐蚀特性
作者姓名:
鲜晓斌 王庆富 刘天伟 刘清和
摘 要:
TiN镀层作为耐磨镀层,半导体工业中的扩散阻挡层,电子装置镀层,射频超导阱结构中的反次级电子倍增效应镀层,装饰和耐腐蚀保护镀层,已经在各个领域中得到广泛的应用。TiN镀层由于有很稳定的化学性能,以及和各种钢基材有较好的结合强度,特别适合用于材料的防腐蚀保护镀层。
关 键 词:
耐磨镀层 TiN 腐蚀特性 离子沉积 阴极电弧 防腐蚀保护 扩散阻挡层 半导体工业
本文献已被
维普
等数据库收录!
设为首页
|
免责声明
|
关于勤云
|
加入收藏
Copyright
©
北京勤云科技发展有限公司
京ICP备09084417号