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LIA注入器发射度增长机理研究及其抑制措施
引用本文:代志勇,国智元,章林文. LIA注入器发射度增长机理研究及其抑制措施[J]. 中国物理 C, 2004, 28(9): 1002-1006
作者姓名:代志勇  国智元  章林文
作者单位:[1]中国科学院高能物理研究所北京100039 [2]中国工程物理研究院流体物理研究所绵阳621900
摘    要:根据直线感应加速器(LIA)的特点采用了轴对称直流模型,结合E.P.Lee的理论导出了发射度增长的微分方程,提出了一种直线感应加速器发射度增长的机理,根据该机理计算了从均匀分布到高斯分布的演变过程中发射度增长的大小,指出直线感应加速器(LIA)注入器阶段束流发射度增长主要是由于非线性效应导致的束刨面电流密度分布变化引起的.根据研究结果,提出了相应的抑制发射度增长的措施.

关 键 词:直线感应加速器  轴对称直流束  发射度增长  控制措施
收稿时间:2004-02-03
修稿时间:2004-02-03

Mechanism and Control Methods of Emittance Growth for LIA Injector
DAI Zhi-Yong , GUO Zhi-Yuan ,) ZHANG Lin-Wen. Mechanism and Control Methods of Emittance Growth for LIA Injector[J]. High Energy Physics and Nuclear Physics, 2004, 28(9): 1002-1006
Authors:DAI Zhi-Yong    GUO Zhi-Yuan   ) ZHANG Lin-Wen
Affiliation:DAI Zhi-Yong 1,2 GUO Zhi-Yuan 1,1) ZHANG Lin-Wen2 1
Abstract:According to characteristics of Linear Induction Accelerator(LIA),the model of cylindrically symmetric DC beams is adopted in this paper.The differential equation of RMS emittance growth is derived.One of the emittance growth mechanism is presented,which assumes that the beam profile will not stop evolving unless it has Gaussian distribution due to non-linearity during beam transportation.Consequently,the emittance growth is calculated from K-V distribution to Gaussian distribution,and the control methods of emittance growth is discussed.
Keywords:LIA  cylindrically symmetric DC beams  emittance growth  control methods  
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