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| 非晶态多层调制膜 | |
| 引用本文： | 大星.非晶态多层调制膜[J].物理,1985(5). |
| 作者姓名： | 大星 |
| 摘 要： | 一提起超晶格或多层调制膜,人们自然会联想到超高真空技术和分子束外延设备.这对经费不多的研究工作者来说,只能望洋兴叹.近几年来,随着非晶半导体薄膜材料及器件的迅速发展,许多实验室已经可以获得高质量的非晶硅(氢)薄膜.其带隙态密度低于1016/cm3.在这个领域内领先的实验物理学家们又获得了令人惊奇的新成就──非晶态多层调制膜及其器件研制成功.它既不需要昂贵的设备,也不需用十分复杂的技术.由于非晶态多层调制膜具有可控制的周期性组分,又可以淀积在预先加工成型的衬底上,所以它已成功地用于斯坦福大学同步辐射光源和医疗方面作为X… |
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