| Mo2C膜表面快速粗糙化现象研究 |
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| 引用本文： | 郑瑞伦,冉扬强,陈洪,平荣刚. Mo2C膜表面快速粗糙化现象研究[J]. 物理学报, 2000, 49(7) |
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| 作者姓名： | 郑瑞伦 冉扬强 陈洪 平荣刚 |
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| 作者单位： | 1. 西南师范大学物理系,重庆,400715
2. 中国科学院高能物理研究所,北京,100039 |
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| 摘 要： | 介绍了Mo2 C膜表面粗糙度的测量结果 ,引入晶粒边界修正 ,对Mo2 C膜的表面快速粗糙化现象给予理论解释 .
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| 关 键 词： | Mo_2C膜 快速粗糙化 粗糙化指数 |
RAPID ROUGHENING OF Mo2C FILM SURFACE |
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| ZHENG RUI-LUN,RAN YANG-QIANG,CHEN HONG,PING RONG-GANG. RAPID ROUGHENING OF Mo2C FILM SURFACE[J]. Acta Physica Sinica, 2000, 49(7) |
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| Authors: | ZHENG RUI-LUN RAN YANG-QIANG CHEN HONG PING RONG-GANG |
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| Abstract: | The roughness of Mo-2C film surface is measured and the results are given.By introduction of crystalline boundary correction,the rapid roughening phenomenon is explained theoretically. |
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| Keywords: | Mo-2C thin film rapid roughening roughness exponent |
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