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表面态对碳化硅功率金-半场效应管特性的影响
引用本文:杨林安,张义门,于春利,杨永民,张玉明. 表面态对碳化硅功率金-半场效应管特性的影响[J]. 计算物理, 2003, 20(5): 418-422
作者姓名:杨林安  张义门  于春利  杨永民  张玉明
作者单位:1. 西安电子科技大学微电子研究所, 陕西 西安 710071;2. 西北工业大学微波教研室, 陕西 西安 710072
基金项目:国防科技预研基金(No.8.1.7.3)资助项目
摘    要:分析了4H-SiC射频功率MESFET栅源和栅漏区域内的表面态形成,建立了包含表面态影响的非线性解析模型,理论描述了对器件输出特性的稳态、瞬态响应.本模型具有计算简单、物理概念清晰的特点.

关 键 词:碳化硅  金属半导体场效应晶体管  表面态  钝化  
文章编号:1001-246X(2003)05-0418-05
收稿时间:2002-05-31
修稿时间:2002-05-31

Surface-state Effects on Silicon Carbide Power MESFET's
YANG Lin-an,ZHANG Yi-men,YU Chun-li,YANG Yong-min,ZHANG Yu-ming. Surface-state Effects on Silicon Carbide Power MESFET's[J]. Chinese Journal of Computational Physics, 2003, 20(5): 418-422
Authors:YANG Lin-an  ZHANG Yi-men  YU Chun-li  YANG Yong-min  ZHANG Yu-ming
Affiliation:1. Microelectronics Institute, Xidian University, Xi'an 710071, China;2. Microwave Laboratory, Northwestern Polytechnical University, Xi'an 710072, China
Abstract:An analytical non-linear model including surface-state effect is proposed for 4H-SiC power MESFET's with which the impact of suface damage at the ungate recess region caused by the dry-etching process on the output steady-state characterization can be illustrated clearly.The model has the advantage in very simple calculations over the 2D numerical simulations, therefore suitable for process analysis of SiC power MESFET's.
Keywords:silicon carbide  MESFET  surface-state  passivation
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