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| 表面残留有机沾污物的TOF－SIMS及XPS研究 | |
| 引用本文： | 邓朝辉,林晶,任云珠,宗祥福.表面残留有机沾污物的TOF－SIMS及XPS研究[J].分析测试学报,1996(2). |
| 作者姓名： | 邓朝辉 林晶 任云珠 宗祥福 |
| 作者单位： | 复旦大学材料科学系 |
| 摘 要： | 飞行时间次级离子质谱（ＴＯＦ－ＳＩＭＳ）结合Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ）分析了用化学方法清洗后、银片上残留的未知的有机物。结果显示，有机沾污物主要是一些含１８～３０碳原子、碳链饱和度很高的酮类和酯类化合物；个别有机物可能是硬脂酰胺。这种结构特点使有机物中的Ｃ＝Ｏ基团易于采取氧原子指向基体表面的取向，通过带部分负电荷的氧原子与金属基体镜像力的作用而增强粘附。ＴＯＦ－ＳＩＭＳ二维离子像显示有机沾污物在银片表面上呈极稀薄的均匀分布。 |
| 关 键 词： | 飞行时间次级离子质谱（TOF－SIMS），X射线光电子能谱（XPS），有机沾污物 |
TOF-SIMS and XPS Studies on Residual Organic Contaminants Remained |
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| Deng Zhaohui,Lin Jing,Ren Yunzhu,Zong Xiangfu.TOF-SIMS and XPS Studies on Residual Organic Contaminants Remained[J].Journal of Instrumental Analysis,1996(2). | |
| Authors: | Deng Zhaohui Lin Jing Ren Yunzhu Zong Xiangfu |
| Abstract: | |
| Keywords: | Time-of-flight secondary ion mass spectrometry(TOF-SIMS) X-ray photoelcctron spectroscopy(XPS) Organic contaminant |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |