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| 射频等离子体处理对TiO2薄膜光电转换和亲水性的影响 | |
| 引用本文： | 韩俊波,王念,于国萍,魏正和,钟家柽,王取泉,周正国.射频等离子体处理对TiO2薄膜光电转换和亲水性的影响[J].液晶与显示,2005,20(3):205-209. |
| 作者姓名： | 韩俊波 王念 于国萍 魏正和 钟家柽 王取泉 周正国 |
| 作者单位： | 1. 武汉大学,物理科学与技术学院,湖北,武汉,430072 2. 武汉大学,化学与分子科学学院,湖北,武汉,430072 3. 武汉大学,物理科学与技术学院,湖北,武汉,430072;武汉大学,纳米科学与技术研究中心,湖北,武汉,430072 |
| 基金项目： | 湖北省自然科学基金资助项目(No.202130626) |
| 摘 要： | 用反应射频溅射法在导电玻璃上制备TiO2薄膜,并用Ar射频等离子体对TiO2薄膜进行处理。利用XRD、XPS、UVVIS透射光谱和AFM等测试手段研究Ar射频等离子体处理对TiO2纳米薄膜的结构、成分和光电性能的影响,用液滴形貌分析法测量水滴在TiO2薄膜表面的接触角。经过Ar射频等离子处理后,用TiO2薄膜组装的光电池的光电流提高了约80%,TiO2薄膜的亲水角由66°左右迅速减小。 |
| 关 键 词： | 等离子体处理 射频溅射 光电转换 亲水性 TiO2 纳米晶 |
| 文章编号： | 1007-2780(2005)03-0205-05 |
| 修稿时间： | 2004年10月25 |
Photo-electrical Performance of TiO2 Thin Films by Ar Plasma Treatment |
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| HAN Jun-Bo,Wang Nian,YU Guo-ping,WEI Zheng-he,ZHONG Jia-Cheng,Wang Qu-Quan,ZHOU Zheng-guo.Photo-electrical Performance of TiO2 Thin Films by Ar Plasma Treatment[J].Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays,2005,20(3):205-209. | |
| Authors: | HAN Jun-Bo Wang Nian YU Guo-ping WEI Zheng-he ZHONG Jia-Cheng Wang Qu-Quan ZHOU Zheng-guo |
| Institution: | HAN Jun-bo~1,WANG Nian~1,YU Guo-ping~1,WEI Zheng-he~1,ZHONG Jia-cheng~3,WANG Qu-quan~ |
| Abstract: | |
| Keywords: | plasma treatment RF sputtering photo-electrical conversion hydrophilic properties nanocrystalline TiO_2 |
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