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硫钝化GaAs MESFET的机理研究
引用本文:邢东,李效白,刘立浩.硫钝化GaAs MESFET的机理研究[J].半导体技术,2002,27(7):61-64.
作者姓名:邢东  李效白  刘立浩
作者单位:1. 河北半导体研究所,河北,石家庄,050051;2. 河北工业大学,天津,300130
摘    要:研究了硫钝化对GaAs MESFET直流特性的影响,并通过对钝化前后击穿电压的分析,认为负电荷表面态的增加减弱了栅靠漏一侧的电场强度,是导致器件击穿电压升高的原因.

关 键 词:硫钝化  GaA  s  MESFET  击穿电压  负电电荷表面态
文章编号:1003-353X(2002)07-0061-04
修稿时间:2002年3月11日

Mechanism of sulfur passivation effects in GaAs MESFET
XING Dong ,LI Xiao-bai,LIU Li-hao.Mechanism of sulfur passivation effects in GaAs MESFET[J].Semiconductor Technology,2002,27(7):61-64.
Authors:XING Dong  LI Xiao-bai  LIU Li-hao
Institution:XING Dong 1,LI Xiao-bai1,LIU Li-hao2
Abstract:In this paper, we investigated the electrical characteristics of GaAs MESFETpassivated by (NH4)2Sx solution. The increase of breakdown voltage after passivation is explainedby negativly charged surface-state effect.
Keywords:sulfur passivation  GaAs MESFET  breakdown voltage  negativly charged surface-state effect
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