掺杂立方AgBr乳剂介电频谱的研究——Ⅰ.Cd++、Cu++离子的影响 |
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引用本文: | 程虎民,刘军.掺杂立方AgBr乳剂介电频谱的研究——Ⅰ.Cd++、Cu++离子的影响[J].影像科学与光化学,1983,1(3):6-15. |
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作者姓名: | 程虎民 刘军 |
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作者单位: | 北京大学化学系 |
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摘 要: | 测定了立方AgBr乳剂经添加不同量Cd(NO3)2、CdCl2、CdBr2、Cu(NO3)2、CuCl2、CuBr2、KCl和KBr以后的介电频谱,发现Cd++离子只有在卤素离子存在的情况下才能进入AgBr微晶的表面层晶格,使AgBr微晶表面层内填隙银离子浓度降低,从而使AgBr乳剂的介电吸收峰明显向低频方向偏移.Cu++离子很难进入AgBr微晶的表面层晶格,因而对介电吸收峰的位置和形状没有明显影响.这种差别可能主要是由于Cd++和Cu++离子的离子半径、电子层构型及晶体中的配位情况不同所引起的.最后,对Sillars方程应用于照相乳剂体系的条件作了初步探讨.
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收稿时间: | 1982-02-20 |
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