| 红外激光诱导SiO2薄膜生长的氧化动力学研究 |
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| 引用本文： | 徐铸德,陈万喜.红外激光诱导SiO2薄膜生长的氧化动力学研究[J].高等学校化学学报,1994,15(10):1543-1546. |
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| 作者姓名： | 徐铸德 陈万喜 |
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| 作者单位： | 浙江大学化学系 |
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| 摘 要： | 在较低基底温度（室温至～２００℃）下，用μ０．６μｍ ＣＷ ＣＯ２激光在硅（１００）表面生成ＳｉＯ２薄膜，研究了反应气配比（Ｏ２／Ｎ２），基底温度、激光强度、激光辐照时间等实验条件对ＳｉＯ２薄膜形成的影响，探讨了红外激光助长的硅表面氧化反应动力学过程，认为在薄层氧化区域（＜３０ｎｍ）存在反应诱导期。
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| 关 键 词： | 激光微化学 二氧化硅 薄膜 动力学 |
Experimental Study of Oxidation Dynamics of IR Laser-Induced SiO_2 Films |
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| XU Zhu-De,CHEN Wan-Xi,DING Ji-Cheng.Experimental Study of Oxidation Dynamics of IR Laser-Induced SiO_2 Films[J].Chemical Research In Chinese Universities,1994,15(10):1543-1546. |
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| Authors: | XU Zhu-De CHEN Wan-Xi DING Ji-Cheng |
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| Keywords: | Laser micro-chemistry SiO_2 film Oxidation dynamics |
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