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添加剂对离子液体中电沉积金属钴的影响
引用本文:杨培霞,安茂忠,苏彩娜,王福平. 添加剂对离子液体中电沉积金属钴的影响[J]. 无机化学学报, 2009, 25(1): 112-116
作者姓名:杨培霞  安茂忠  苏彩娜  王福平
作者单位:1. 哈尔滨工业大学化化工学院,哈尔滨,150001;哈尔滨工业大学化化工学院,哈尔滨,150001
2. 哈尔滨工业大学化化工学院,哈尔滨,150001
基金项目:国家自然科学基金,高等学校博士学科点专项科研基金 
摘    要:在含有氯化钴的室温离子液体氯化1-甲基-3-乙基咪唑(EMIC)和乙二醇(EG)体系中,采用扫描电子显微镜(FE-SEM)、阴极极化曲线、循环伏安及X射线衍射等方法研究了添加剂对电沉积金属钴的影响。结果表明,在EMIC-EG-CoCl2熔盐中加入丁炔二醇能够有效地改善钴镀层的外观质量,丁炔二醇的加入量在0.3~0.7 g·L-1范围内,能够得到银灰色、具有金属光泽的良好镀层。从FE-SEM照片可以看出,在EMIC-EG-CoCl2熔盐中加入丁炔二醇后,使金属钴的结晶变得更加细致;阴极极化曲线表明,丁炔二醇的加入不仅增大了阴极极化,而且还消除了钴的欠电势沉积;循环伏安测试证明,添加剂的加入对阴极沉积过程有阻化作用;XRD分析证实,丁炔二醇的加入使金属钴的衍射峰变宽,晶粒尺寸为纳米级。

关 键 词:钴; 氯化1-甲基-3-乙基咪唑; 离子液体; 添加剂; 电沉积

Influence of Additive on Electrodeposition of Pure Cobalt from an Ionic Liquid
YANG Pei-Xi,AN Mao-Zhong,SU Cai-Na and WANG Fu-Ping. Influence of Additive on Electrodeposition of Pure Cobalt from an Ionic Liquid[J]. Chinese Journal of Inorganic Chemistry, 2009, 25(1): 112-116
Authors:YANG Pei-Xi  AN Mao-Zhong  SU Cai-Na  WANG Fu-Ping
Affiliation:School of Chemical Engineering and Technology, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001; Research Station on Material Science and Engineering for Postdoctoral Fellows, Harbin Institute of Technology, Harbin, Harbin 150001,School of Chemical Engineering and Technology, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001,School of Chemical Engineering and Technology, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001 and Research Station on Material Science and Engineering for Postdoctoral Fellows, Harbin Institute of Technology, Harbin, Harbin 150001
Abstract:
Keywords:cobalt   1-ethyl-3-methylimidazolium chloride   ionic liquid   additive   electrodeposition
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