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基于普通F-Theta透镜与远心F-Theta透镜的晶圆标识工艺的研究
引用本文:舒天娇,杜远超,李国旗,陈媛,张玲玲,马永新,高垠芮,胡豪威,陈宇.基于普通F-Theta透镜与远心F-Theta透镜的晶圆标识工艺的研究[J].应用激光,2023(2):93-98.
作者姓名:舒天娇  杜远超  李国旗  陈媛  张玲玲  马永新  高垠芮  胡豪威  陈宇
作者单位:1. 上海市激光技术研究所;2. 上海激光直接物标溯源工程技术研究中心;3. 东华大学理学院
基金项目:上海市科学技术委员会科研计划项目(19511130500);
摘    要:为研究聚焦系统对晶圆标识工艺的影响,搭建以1 066 nm的声光调Q脉冲光纤激光器为光源,分别使用普通F-Theta透镜和远心F-Theta透镜的晶圆激光打标系统,使用相同的工艺参数分别在晶圆表面进行点阵标识,研究两种聚焦系统下晶圆的烧蚀阈值、离焦效果和点的形貌。采用白光干涉仪对晶圆标识区域的三维形貌进行评估,研究发现普通F-Theta透镜与远心F-Theta透镜对晶圆的烧蚀阈值的影响区别不大。在离焦效果方面,普通F-Theta透镜随着离焦量增加,标识点直径逐渐变小;而远心F-Theta透镜随着离焦量增加,标识点直径先增大后减小。在打标范围内的标识质量方面,两者在打标范围中心的标识质量基本相当,离中心越远,远心透镜也未能表现出更好的标识形貌。

关 键 词:F-Theta透镜  远心F-Theta透镜  晶圆标识  烧蚀阈值  离焦量
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