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355 nm紫外激光在硅晶圆上标识二维码的工艺研究
作者姓名:陈媛  张玲玲  李国旗  杜远超  舒天娇  吴鸯
作者单位:1. 上海市激光技术研究所;2. 上海激光直接物标溯源工程技术研究中心
摘    要:利用紫外纳秒标识系统对硅晶圆表面进行二维码直接标识试验研究。采用控制变量法,分别研究不同的脉冲占空比、重复频率、光斑重叠率对标识材料的热损伤、表面形貌以及二维码识读效果的影响规律。研究结果表明,脉冲占空比和重复频率对标识区域的环宽和热损伤影响效果明显,二维码的读取率和识读时间同时受占空比、重复频率、光斑重叠率影响。单脉冲能量在10.7~20μJ范围内可以标识出符合SEMI标准的均匀、细腻、稳定、高识读率的无尘标识。

关 键 词:激光标识  硅晶圆  热损伤  识读率
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