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甲酸根吸附热与其电子性质之间的关联:第一性密度泛函理论研究
作者姓名:玛宏罹  王贵昌  MORIKAWA Yoshitada  NAKAMURA Junji
作者单位:[1]南开大学化学学院与理论计算化学中心,天津300071 [2]The Institute of Scientific and Industrial Research (ISIR), Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Osaka 567-0047, Japan [3]Research Institute for Computational Sciences (RICS), National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), Tsukuba Central 2, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568 Japan [4]Institute of Materials Science, University of Tsukuba, Tennoudai 1-1-1,Tsukuba, Ibaraki 305-8573, Japan
摘    要:采用第一性密度泛函理论(DFT-GGA)研究了甲酸根(HCOO)在一系列金属表面的吸附.研究表明,HCOO的最稳定吸附位置是短桥位,吸附热顺序为Au(110)〈Ag(110)〈Cu(110)〈Pd(110)〈Pt(110)〈Ni(110)〈Rh(110)〈Fe(100)〈Mo(100).HCOO吸附热可以很好地与相应的金属氧化物生成热关联.另外还发现,过渡金属的吸附热与金属的小带中心有很好地关联,第1B金属吸附热可以用耦合矩阵平方来解释.

关 键 词:甲酸根  金属  DFT-GGA平板模型  吸附热  d带中心
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