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集成光学 集成光学、波导理论
摘    要:TN2522006010411SiO2平面光波导的PECVD制备和膜层特性研究=PECVD deposition of silica plane waveguides and the fil mproperties刊,中]/陈思乡(武汉理工大学机电工程学院.湖北,武汉(430070)),江征风…∥光通信研究.—2005(5).—68-70研究了等离子体增强化学汽相沉积(PECVD)的光波导膜层的光学特性,论述了沉积工艺参量和退火处理对膜层性能的影响。优化工艺获得了高质量的波导膜层,成功设计制作了在1550nm中心波长损耗低于0.1dB/cm的平面光波导和阵列波导光栅(AWG)器件。图7表1参4(于晓光)TN25220060104125层非线性平板波导T…

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