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超薄EuF_3电极修饰层对有机场效应晶体管性能的提升
引用本文:李红,甘至宏,刘星元.超薄EuF_3电极修饰层对有机场效应晶体管性能的提升[J].发光学报,2014,35(2):238.
作者姓名:李红  甘至宏  刘星元
作者单位:李红:发光学及应用国家重点实验室 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春130033中国科学院大学, 北京100049
甘至宏:发光学及应用国家重点实验室 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春130033
刘星元:发光学及应用国家重点实验室 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 吉林 长春130033
基金项目:国家自然科学基金(61106057)资助项目
摘    要:采用EuF3薄层修饰低功函数金属Ag源、漏电极,制备了CuPc有机场效应晶体管,研究了不同厚度EuF3对器件性能的影响。结果表明,EuF3的厚度由0 nm增至0.6 nm时,接触电阻由23.65×105Ω·cm减至3.86×105Ω·cm,使得器件载流子迁移率由1.5×10-3cm2·V-1·s-1提高到4.65×10-3cm2·V-1·s-1。UPS测试结果表明,薄层EuF3在Ag与有机半导体间形成了界面偶极势垒,使源漏电极表面功函数增大,空穴注入势垒降低,Ag电极与有机半导体层界面的接触电阻减小,进而提升了空穴的注入效率。

关 键 词:场效应晶体管  EuF  修饰层
收稿时间:2013/9/12

Improvements of Organic Field-effect Transistors by Introducing An EuF3 Ultra-thin Film as Modified Layer Electrode
Abstract:
Keywords:field effect transistors  europium fluoride  modified layer
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