首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

在MOCVD外延生长中V/Ⅲ比对AlxGa1—xAs外延层中Al组分分布的影响
引用本文:傅竹西.在MOCVD外延生长中V/Ⅲ比对AlxGa1—xAs外延层中Al组分分布的影响[J].发光快报,1994,15(1):43-49.
作者姓名:傅竹西
摘    要:

关 键 词:砷铝镓  汽相外延生长  铝组分
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号