| 新型meso位芘取代氟硼二吡咯衍生物的合成及光敏活性 |
| |
| 引用本文： | 杨小松,邹遥海,梁力曼,孟迪,彭飞,牛奎. 新型meso位芘取代氟硼二吡咯衍生物的合成及光敏活性[J]. 合成化学, 2020, 28(9): 778-785. DOI: 10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.20049 |
| |
| 作者姓名： | 杨小松 邹遥海 梁力曼 孟迪 彭飞 牛奎 |
| |
| 作者单位： | 1. 河北科技师范学院 a. 化学工程学院，河北 秦皇岛 066004； b. 分析测试中心，河北 秦皇岛 066004 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金;河北省高等学校青年拔尖人才项目;研究生创新项目 |
| |
| 摘 要： | 以1-芘甲醛为原料分别与2,4-二甲基吡咯和吡咯进行缩合反应，经由2,3-二氯-5,6-二氰对苯醌氧化脱氢、三氟化硼乙醚络合物配位后得到两种meso位芘取代的氟硼二吡咯（BODIPY）染料1和2。1和2经Vilsmeier-Haack反应引入醛基后分别与2,4-二甲基吡咯和吡咯反应得到四种meso位芘取代的BODIPY二聚体（1a, 1b,2a, 2b）；将染料1通过碘化反应生成单碘代产物1c和二碘代产物1d。经1H NMR, 13C NMR和HR-MS（APCI）表征，以1,3-二苯基异苯并呋喃（DPBF）为单线态氧捕获剂测试了各衍生物的光敏氧化性能。结果表明：1a~1d的光敏氧化活性均高于母体1，碘代产物1c的光敏活性提升最大，对DPBF的光敏降解速率可达1的12.0倍，半数降解时间仅为29 s；2的光敏降解速率是1的4.9倍，光照72 s即可实现半数降解。
|
| 关 键 词： | 氟硼二吡咯 meso位 芘取代 合成 单线态氧 光敏活性 |
| 收稿时间： | 2020-03-05 |
Synthesis and Photosensitive Properties of Novel Meso-Pyrenyl-Substituted Boron Dipyrromethene Derivatives |
| |
| YANG Xiao-song,ZOU Yao-hai,LIANG Li-man,MENG Di,PENG Fei,NIU Kui. Synthesis and Photosensitive Properties of Novel Meso-Pyrenyl-Substituted Boron Dipyrromethene Derivatives[J]. Chinese Journal of Synthetic Chemistry, 2020, 28(9): 778-785. DOI: 10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.20049 |
| |
| Authors: | YANG Xiao-song ZOU Yao-hai LIANG Li-man MENG Di PENG Fei NIU Kui |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《合成化学》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《合成化学》下载全文 |
|
