| ICP-AES测定电镀高纯铜中微量磷 |
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| 引用本文： | 杨德君,陆雅琴,贾素娟. ICP-AES测定电镀高纯铜中微量磷[J]. 光谱实验室, 2003, 20(3): 367-369 |
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| 作者姓名： | 杨德君 陆雅琴 贾素娟 |
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| 作者单位： | 1. 辽宁师范大学实验中心,辽宁省大连市黄河路850号,116029
2. 辽宁省北票市重点高中,辽宁省北票市,122100 |
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| 摘 要： | 用浓HNO3溶解高纯铜试样，电感耦合等离子体发射光谱(ICP-AES)测定其中微量磷，并对试样处理、测试方法、提高灵敏度等条件进行了优化实验。结果表明，方法回收率为99．07％-102．0％，RSD(n＝6)为0．22％-0．25％。
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| 关 键 词： | ICP－AES 测定 电镀 高纯铜 微量分析 磷 电感耦合等离子体－发射光谱 |
| 文章编号： | 1004-8138(2003)03-0367-03 |
| 修稿时间： | 2002-12-01 |
Determination of Micro Phosphorus in Electroplate Copper by ICP-AES |
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| YANG De-Jun LU Ya-Qin. Determination of Micro Phosphorus in Electroplate Copper by ICP-AES[J]. Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory, 2003, 20(3): 367-369 |
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| Authors: | YANG De-Jun LU Ya-Qin |
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| Abstract: | The micro amounts of phosphorus in electroplate copper dissolved with HNO 3 were determined by ICP-AES under the optimized experimental conditions.The recovery of this method is in the range of 99.07%-102.0%,and the RSD(n=6) is in the range of 0.22%-0.25%. |
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| Keywords: | ICP-AES Phosphorus Electroplate Copper. |
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