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以150—200℃沉积的低阻锡掺杂氧化铟薄膜的微结构

引用本文：	刘哲.以150—200℃沉积的低阻锡掺杂氧化铟薄膜的微结构[J].发光快报,1995(6):35-39.

作者姓名：	刘哲

摘要：
关键词：	锡掺杂氧化铟薄膜微结构光电子材料
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