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射频磁控溅射法制备N掺杂β-Ga2O3薄膜的光学特性
作者姓名:闫金良  张易军  李清山  曲崇  张丽英  李厅
作者单位:鲁东大学物理学院,山东烟台,264025
基金项目:The National Natural Science Foundation of China,the Natural Science Foundation of Shandong Province,Project of Shandong Province Higher Educational Science and Technology Program
摘    要:在不同氨分压比(0~30%)下,用射频磁控溅射法在玻璃和硅衬底上制备了N掺杂β-Ga2O3薄膜.研究了氨分压比和退火对薄膜光学和结构特性的影响.N掺杂β-Ga2O3薄膜的微结构、光学透过率、光学吸收和光学带隙随着氨分压比的增加发生了显著变化.观察到了绿光、蓝光和紫外发光带,并对每个发光带进行了讨论.

关 键 词:射频磁控溅射  透明导电氧化物  光学带隙  退火  N掺杂β-Ga2O3
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