| 脉冲激光沉积的金属原子团簇的电子状态及生长的研究 |
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| 引用本文： | 赖新春, 米·阿·普希金, 维·伊·特拉扬, 等. 脉冲激光沉积的金属原子团簇的电子状态及生长的研究[J]. 强激光与粒子束, 2000, 12(06). |
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| 作者姓名： | 赖新春 米·阿·普希金 维·伊·特拉扬 弗·尼·特罗宁 安·弗·韧戈维奇 |
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| 作者单位： | 1.莫斯科国立工程物理学院,莫斯科1 1 5409;;;2.中国工程物理研究院,绵阳 621 900 |
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| 摘 要： | 介绍了采用X射线光电子谱(XPS)等技术研究脉冲激光沉积在Ni、Mo、C、NaCl(100)表面的Cu、Au原子团簇的电子状态；结合Cu2p3/2 X射线光电子谱峰和Cu L3M4,5M4,5俄歇跃迁分离了电子结合能的初态和终态贡献，得出了它们随Cu表面浓度变化的关系，并对之作出了解释。使用XPS、RBS、TEM三项技术研究了Au在NaCl(100)表面的生长过程，通过计算得出了在不同表面浓度下Au原子团簇的平均高度和表面覆盖率。
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| 关 键 词： | PLD 原子团簇 XPS 初态效应 终态效应 俄歇参数 |
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