| 结合烷烃硫醇小分子自组装单层的原子光刻技术——以壬烷硫醇和12烷硫醇为例 |
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| 引用本文： | 巨新,仓桥光纪,铃木拓,山内泰. 结合烷烃硫醇小分子自组装单层的原子光刻技术——以壬烷硫醇和12烷硫醇为例[J]. 电子显微学报, 2008, 27(1): 43-46 |
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| 作者姓名： | 巨新 仓桥光纪 铃木拓 山内泰 |
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| 作者单位： | 南京大学物理系,江苏 南京 210093;物质材料研究机构,日本茨城县筑波市,305-0047;物质材料研究机构,日本茨城县筑波市,305-0047 |
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| 摘 要： | 采用不同网格尺寸的透射电镜铜网作为掩模,以烷烃硫醇类小分子自组装单层作为光刻胶,光学质量的云母为衬底,用亚稳氦原子光刻技术制备具有纳米台阶的金膜图形,最终用原子力显微镜分析表征.结果表明:这种技术可将具有钠米台阶的正负图形很好地传递到金膜,具有高的可信度.同时,在不同时的实验中光刻图形的重复性很好.
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| 关 键 词： | 原子光刻 掩模 自组装单层 |
| 文章编号： | 1000-6281(2008)01-0043-04 |
| 修稿时间： | 2007-01-09 |
Metastable atom lithography with nonanethiol and dodecanethiol self-assembled monolayers as resist |
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| JU Xin,KURAHASHI Mitsunori,SUZUKI Taku,YAMAUCHI Yasushi. Metastable atom lithography with nonanethiol and dodecanethiol self-assembled monolayers as resist[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 2008, 27(1): 43-46 |
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| Authors: | JU Xin KURAHASHI Mitsunori SUZUKI Taku YAMAUCHI Yasushi |
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