首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

电沉积光致抗蚀剂法的技术动向
引用本文:久保田敬典 ,邹骏宇.电沉积光致抗蚀剂法的技术动向[J].印制电路信息,1995(11).
作者姓名:久保田敬典  邹骏宇
摘    要:在国内,电沉积光致抗蚀剂法的实用化已经有八年多时间。在实用化的最初阶段,正是印制板业界取得惊人发展的时期,业界对新技术的期待和旺盛的投资欲望促使其生产线的应用得到飞速的增长。当时采用的理由是,与干膜法相比在精细化方面有着很大的优势。但是,随着经济的不景气,在为了生存而进行的激烈的竞争中,不只在精细化方面,还要看电沉积光致抗蚀剂法在提高竞争力方面能起到什么作用。

本文献已被 CNKI 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号