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X射线衍射里特沃尔德全谱图拟合法测定粉尘中游离的SiO2
引用本文:曾令民,杨喜英,王力珩,李小萍,葛宪民. X射线衍射里特沃尔德全谱图拟合法测定粉尘中游离的SiO2[J]. 分析化学, 2008, 36(5): 599-603
作者姓名:曾令民  杨喜英  王力珩  李小萍  葛宪民
作者单位:广西大学物理科学与工程技术学院材料科学研究所,南宁,530004;广西大学化学化工学院,南宁,530004;广西职业病防治研究所,南宁,530021
基金项目:广西自然科学基金 , 广西卫生厅资助基金 , 广西大型仪器协作公共网资助
摘    要:应用X射线衍射技术与Rietveld全谱图拟合法测定了粉尘中游离SiO2的含量,并同时得到粉尘样品中其它晶相和非晶相物质的含量。实验采用日本理学D/MAX 2500V型X射线衍射仪,CuKα辐射带石墨单色器,管电压44 kV,管电流150 mA,步进扫描收集衍射数据,经Jade 5.0软件定性分析,DBWS9807a软件定量分析,结果为:Rp平均等于11.29%,Rwp平均等于13.74%,Rexpected平均等于4.04%。SiO2在各样品中的含量为15.61%~37.83%;加标回收率为102.6%~119.9%;重现性测定相对标准偏差(RSD)为1.14%。结果表明:用Rietveld全谱图拟合法测定粉尘中游离SiO2的含量是一种快速、准确、方便的方法。

关 键 词:定量分析  游离二氧化硅  非晶体  X射线衍射  Rietveld全谱图拟合法
修稿时间:2007-08-30

Determination of Weight Concentration of Free Silicon Dioxide for Dust Using X-ray Diffraction Technique and Rietveld Refinement Method
ZENG Ling-Min,YANG Xi-Ying,WANG Li-Heng,LI Xiao-Ping,GE Xian-Min. Determination of Weight Concentration of Free Silicon Dioxide for Dust Using X-ray Diffraction Technique and Rietveld Refinement Method[J]. Chinese Journal of Analytical Chemistry, 2008, 36(5): 599-603
Authors:ZENG Ling-Min  YANG Xi-Ying  WANG Li-Heng  LI Xiao-Ping  GE Xian-Min
Abstract:
Keywords:Quantitative phase analysis  free silicon dioxide  amorphous  X-ray powder diffraction  Rietveld method
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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